無掩膜直寫光刻設(shè)備定義為一種無需物理掩膜版、通過計算機(jī)控制的高精度光束（如激光束或數(shù)字微鏡器件）直接在光刻膠或感光材料的基材上曝光圖形的微納加工設(shè)備，適用于微納米級圖形制備。其核心技術(shù)基于光學(xué)或帶電粒子束（如激光直寫、DMD投影）直接掃描或投影圖案，消除了掩膜版制作環(huán)節(jié)，實現(xiàn)高精度圖形轉(zhuǎn)移。設(shè)備的核心優(yōu)勢包括高靈活性、快速原型制造能力，以及顯著降低研發(fā)成本和時間周期。主要應(yīng)用于科研機(jī)構(gòu)、實驗室及小批量工業(yè)原型制造（如微流控芯片、半導(dǎo)體器件開發(fā)）。